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基于硅的射频电容器/薄膜电容器

• 272025-03
  02015J0R2ZBSTR\50002015J0R2ZBSTR\500 - 基于硅的射频电容器/薄膜电容器 50V .2pF Tol .01pF T hin Film 0201
• 272025-03
  02015J0R2ZBSTR02015J0R2ZBSTR - 基于硅的射频电容器/薄膜电容器 50V .2pF Tol .01pF T hin Film 0201
• 272025-03
  02015J0R1PBSTR02015J0R1PBSTR - 基于硅的射频电容器/薄膜电容器 50V 0.1pF .02pFTol T hinFilm 0201
• 272025-03
  02013J2R4PBSTR\50002013J2R4PBSTR\500 - 基于硅的射频电容器/薄膜电容器 25V 2.4pF +/-0.5pF Thin Film 0201
• 272025-03
  02013J2R2PBSTR\50002013J2R2PBSTR\500 - 基于硅的射频电容器/薄膜电容器 25V 2.2pF +/-0.5pF Thin Film 0201
• 272025-03
  02013J2R2BBSTR02013J2R2BBSTR - 基于硅的射频电容器/薄膜电容器 25V 2.2pF .1pFTol Th inFilm 0201
• 272025-03
  02013J1R2ABSTR02013J1R2ABSTR - 基于硅的射频电容器/薄膜电容器 25V 1.2pF .05pFTol T hinFilm 0201
• 272025-03
  02013J0R8PBSTR02013J0R8PBSTR - 基于硅的射频电容器/薄膜电容器 25V 0.8pF .02pFTol T hinFilm 0201